fpc曝光要求的最大目標有兩部分，其一是達成曝光良好轉寫度，使影像真實呈現，其二是降低需求影像以外缺點，尤其是曝光雜點。以轉寫度而言，希望達成的目標是以位置精確、尺寸穩定為原則，因此所有能達成此目的的做法都值得關注。理論上使用高分辨率感光膜、高精度對位機構、平行曝光結構、良好曝光框機制、恰當排氣條操作，應該就可以得到不錯的曝光成果。

  某些曝光程序，希望能降低異物對曝光的影響，因此采用非平行曝光設備，這樣會減損一些分辨率。但因為可以降低異物造成的曝光困擾，因此也是一種不錯的選擇。至于投影式設備，因為影像是利用不接觸方式產生，因此作業面積小，但對于外來異物影響敏感度也較低，同時不會面對真空度、底片刮傷等問題，對小面積生產產品是不錯的選擇。

  也有電池fpc廠大面積投射式曝光設備問世，利用平行式驅動的兩個坐標系統，以折射鏡筒進行曝光。因為是非接觸式曝光系統，可以微調焦距達成影像尺寸變化，因此號稱可以配合電路板尺寸變化作縮放。這個做法理論上可行，但實際應用必須小心，因為會影響前后制程作業邏輯與操作成本。

  最理想的曝光設備，理論上是直接輸出的繪制曝光設備，但這種設備的整體成本仍偏高。

  綜合以上做法，不論軟、硬板制作都可以采用。但如果要作卷對卷連續生產，曝光機構與前后制程聯機方式要注意。某些用于TAB制作的曝光機，就直接使用非接觸投影設備曝光生產。它的做法就是使用卷式驅動器，將經過涂布感光劑的軟板，進行收送連續曝光。曝光后再送進顯影蝕刻線，做后續的線路處理制作，是一種最典型卷式電池軟板曝光設備。